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DLAB 金属浴HC110-Pro
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发布时间: 2024-05-17 13:28
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详细信息

DLAB 金属浴HC110-Pro

· 出色的温度控制系统;

· 调整范围,25-110℃;

·  温度(20-45℃)*大精准度±0.5℃;

· 多种承载模块可挑选;

· 支持程序编辑和存储。

· 磁体吸附技术,无需工具,模块即可自动与机器吸附;

· 配置保温功能模块罩,防止热量散失。

规格

技术参数

HC110-Pro

功能

加热,制冷

温度控制范围[℃]

*低:低于室温25℃ *高:110 ℃

温度可设定范围 [℃]

-5℃/110℃

温度精准度 [20–45℃]

± 0.5℃

温度均一性 [20–45℃]

± 0.5℃

*大加热速率 [℃/分]

5.5

*大制冷速率 [℃/分]

5 (110℃~室温.) 0.5 (至低于室温)

屏幕规格

LCD

*大编程数量

9

输入电压

100-120V/220–240V,  50Hz/60Hz

功率

180 W

时间设置范围

1min~99h59min

尺寸[长×宽×高 mm]

200×235×120

工作环境温度

5~40℃

工作环境湿度

80%


货号

模块

速度

容量

直径 x 深度

18900238


1500 rpm

24 x 0.5ml

8.1x26mm

18900237


1500 rpm

24x 1.5ml

10.9x30.8mm

18900239


1500 rpm

24x 2ml

10.9x30.8mm

18900240


1500 rpm

8x 5ml

13.6x42mm

18900241


800 rpm

8x 15ml

16.5x80mm

18900242


600 rpm

4x 50ml

29.6x80mm

18900244


1500 rpm

酶标板

18900243


1500 rpm

0.2ml x 96孔



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